中國半導體蝕刻機相關股票

『壹』 光刻機是晶元製造的關鍵，現在在中國有哪些企業能夠研製光刻機

光刻機是晶元製造的關鍵設備，我國投入研發的公司有微電子裝備(集團)股份，長春光機所，中國科學院等都在研發，合肥芯碩半導體有限公司，先騰光電科技有限公司，先騰光電科技有限公司， 合肥芯碩半導體有限公司都有研發以及製造。而且有了一定的科研成果，但是目前我國高端晶元的製造卻主要依賴荷蘭進口的光刻機。我國光刻機在不斷發展但是與國際三巨頭尼康佳能（中高端光刻機市場已基本沒落）ASML（中高端市場近乎壟斷）比差距很大。

合肥芯碩半導體有限公司成立與2006年4月,是國內首家半導體直寫光刻設備製造商。該公司自主研發的ATD4000,已經實現最高200nm的量產。

無錫影速成立與2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首台雙檯面高速激光直接成像連線設備(LDI),已經實現最高200nm的量產。無錫影速成立與2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首台雙檯面高速激光直接成像連線設備(LDI),已經實現最高200nm的量產。

先騰光電成立於2013年4月,已經實現最高200nm的量產,在2014國際半導體設備及材料展覽會上,先騰光電亮出了完全自主知識產權的LED光刻機生產技術,震驚四座。

『貳』 光刻機和刻蝕機的區別

刻蝕相對光刻要容易。光刻機把圖案印上去，然後刻蝕機根據印上去的圖案刻蝕掉有圖案（或者沒有圖案）的部分，留下剩餘的部分。

「光刻」是指在塗滿光刻膠的晶圓（或者叫矽片）上蓋上事先做好的光刻板，然後用紫外線隔著光刻板對晶圓進行一定時間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質，易於腐蝕。

「刻蝕」是光刻後，用腐蝕液將變質的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導體器件及其連接的圖形。然後用另一種腐蝕液對晶圓腐蝕，形成半導體器件及其電路。

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光刻機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動

1.手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對准，對准精度可想而知不高了；

2.半自動：指的是對准可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；

3.自動： 指的是 從基板的上載下載，曝光時長和循環都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。

『叄』 求中國十大晶元企業排行榜，有哪些比較靠前

中國十大晶元企業是：紫光集團、華為海思、長電科技、中芯國際、太極實業、中環股份、振華科技、納斯達、中興微電、華天科技。其中比較靠前的是紫光集團、華為海思。

材料方面，日本是全球領先者。反觀中國，硅晶圓幾乎是空白，8英寸國產率不足10%，12英寸依賴進口，打破壟斷的希望還在張汝京創辦的新升半導體，今年即將量產。他也是中芯國際的創始人。晶元製造，國內最先進的是中芯國際和廈門聯芯，目前能做到28納米量產。而它們的競爭對手，三星、台積電等巨頭即將在今年量產7納米，相差兩三代。

『肆』 為什麼中國的5納米刻蝕機不能突破華為的晶元壓制eimkt

中國目前還沒有生產出五納米刻蝕機，而且華為晶元從設計到製造都需要國外的技術和設備，並不是只缺一台光刻機。

『伍』 5nm刻蝕機入駐台積電，對我國半導體行業產生怎樣的影響eimkt

台積電還是受美國限制，沒辦法，原來說採用30%的美國技術才受限
台積電還可以在這個范圍幫助華為
但是後來美國把這個范圍限制到10%，所以沒辦法了，包括中芯國際都要受這個制約
主要的光刻機生產商 荷蘭光刻機公司asml背後其實也是受美國控制的

『陸』 被稱為晶元的「魄」，國產蝕刻機在世界上處於什麼水平

為什麼有人說國內晶元產業還有很長的路要走？中國的刻蝕機確實達到了世界先進水平，而光刻機還很早，即使兩者都是世界先進水平，也並不意味著中國晶元工業的未來不會很難。

再退一步講如果一流光刻機和刻蝕機都國產，台積電也變成了國產企業，國產的晶元業就獨步天下了么？當然不是，我們還需要高通、蘋果、英偉達、英特爾、賽靈思、德州儀器這樣的晶元設計、研發、製造和銷售公司來打造整個晶元行業的產業鏈。晶元行業的產業鏈非常長，不是靠幾台光刻機和刻蝕機就能解決問題了，上、中、下游都有眾多廠商在其中競爭搏殺，從這個意義上來講，國產的晶元行業並非全面落後，但前路的確依舊艱辛，需要我們繼續努力！！

『柒』 神工股份在刻蝕用半導體級單晶硅材料領域的發展目標是什麼

公司將繼續依託自身的技術優勢及豐富的半導體市場經驗，增加技術研發投入，提高生產管理效率，並緊密圍繞「半導體材料國產化」的國家戰略，成為中國乃至世界半導體硅材料領域的領先者。

『捌』 國內最大的蝕刻廠家有哪些

蝕刻機是目前我國最具優勢的半導體設備領域，中國的蝕刻機龍頭企業中微半導體，也處於業界領先地位。公開資料顯示，中微半導體正式成立於2004年，至今為止已有16年的發展史。中微半導體是全球第一家成功研製出5nm精度蝕刻機的企業，目前該公司的5nm蝕刻機已經通過台積電的驗證。

『玖』 中國買家大量采購二手半導體設備，目前半導體行業發展前景有何困境

1、首先看設計，華為海思和紫光展銳分列國內前兩名。目前，兩家公司在不少領域已是世界領先水平，但一個巨大的問題是，其架構授權的核心都被外人掌握。

目前，國內僅有中科院的龍芯和總參謀部的申威擁有自主架構，前者用於北斗導航，後者用於神威超級計算機，民用領域基本是空白。

2、設備和材料是又一大短板。製造晶元的三大設備光刻機、蝕刻機和薄膜沉積，國內僅中微半導體的介質蝕刻機能跟上行業節奏，其7納米設備已入圍台積電名單。

總的來說，二手市場正成為中企從海外供應商處找到轉機的良方，受此助力，我國晶元行業的研發進展也有望踏上新的台階。

『拾』 中國的光刻機與刻蝕機已經達到世界先進水平，為什麼有些人還說中國晶元業依舊前路艱辛

據媒體報道，2018年12月，中微半導體設備（上海）有限公司自主研製的5納米等離子體刻蝕機經台積電驗證，性能優良，將用於全球首條5納米製程生產線。5納米，相當於頭發絲直徑（約為0.1毫米）的二萬分之一，將成為集成電路晶元上的最小線寬。台積電計劃2019年進行5納米製程試產，預計2020年量產。

中國的刻蝕機的確是達到了世界先進水平，光刻機還早，而且就算是這兩樣都世界先進了，不代表中國晶元業的前路就不艱辛了。目前中國的刻蝕機的確領先，5納米等離子體刻蝕機已經通過台積電驗證；但是光刻機就差多了，之前新聞報道中提到的「中科院SP超分辨光刻機」其實最多隻能算是一個「原型機」，和ASML的光刻機不能相提並論，也不能用來製造晶元，還需要攻克一系列的技術難題退一步講，就算是中國的光刻機與刻蝕機都達到世界領先就解決問題了么？ASML的EUV光刻機我們已經下單等待交貨了，是不是到貨以後中國就可以生產7nm甚至是5nm的晶元了不要把問題想簡單了，以為晶元也只有光刻機和刻蝕機。晶元製造的技術、經驗、工藝以及人才是一個系統性的工程，台積電也不是一天建成的，有了光刻機也不代表我們就能造出最頂尖的晶元。