中國首台7納米光刻機公司股票

① 光刻機板塊中3.7元股票是哪一個

光刻機板塊的3.7萬股票也是有的，它是在其中一隻就是比較多的那隻，所以說三點。

② 哪一光刻機巨頭，占據了國內的80%市場

上海微電子是大陸光刻設備龍頭企業，在國內中端先進封裝光刻機和LED光刻機市場，獨佔80%的市場份額。

③ 中國有大型國企研發製造光刻機嗎

光刻機是晶元製造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶元的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於LED製造領域的投影光刻機。用於生產晶元的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板。

光刻機被稱為「人類最精密復雜的機器」，該領域的龍頭老大是荷蘭ASML，並已經壟斷了高端光刻機市場。荷蘭ASML公司EUV光刻機售價高達1億美元，而且只有ASML能夠生產。

相比之下，中國最好的光刻機廠商上海微電子裝備有限公司（SMEE）已經量產的光刻機中，性能最好的SSA600/20工藝只能達到90nm，相當於2004年上市的奔騰四CPU的水準。而國外的先進水平已經達到了7納米，正因如此，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

④ 中國生產28納米晶元和光刻機的上市公司有哪些

⑤ 一台ASML7納米光刻機月產能有多大

前面的回答有數據和概念錯誤，把測試數據當量產數據，還混淆了晶圓和晶元的關系，所以來補充一發。預告：高清多圖，圖片信息量大，需要仔細品味。先說晶圓和晶元的關系。晶圓就是從硅錠（不是龜腚）上切下的一張張薄片，下圖中的長柱子就是剛拉制出的硅錠，從尺寸看直徑應是12英寸的，高大約2米（參考旁邊站立的人群），重150公斤。

所以，理論上說，ASML一台7納米光刻機每月可加工18萬張12英寸晶圓，製造大約5000萬片可用的die。但考慮到客戶一次下單量不可能這么大，加上製造過程中需要停機檢查，所以實際產量會低於5000萬片。

⑥ 中國的光刻機達到了世界先進水平，但為何生產高端晶元依然困難重重

018年12月，中微半導體設備（上海）有限公司自主研製的5納米等離子體刻蝕機經台積電驗證，性能優良，將用於全球首條5納米製程生產線。5納米，相當於頭發絲直徑（約為0.1毫米）的二萬分之一，將成為集成電路晶元上的最小線寬。台積電計劃2019年進行5納米製程試產，預計2020年量產。

▲半導體器件工藝製程從14納米微縮到5納，等離子蝕刻步驟會增加三倍

刻蝕機是晶元製造的關鍵設備之一，曾一度是發達國家的出口管制產品。中微半導體聯合創始人倪圖強表示，中微與科林研發(Lam
Research)、應用材料(Applied Materials)、東京威力科創(Tokyo Electron
Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies)
4家美日企業，組成了國際第一梯隊，為7納米晶元生產線供應刻蝕機。中微半導體如今通過台積電驗證的5納米刻蝕機，預計能獲得比7納米更大的市場份額。

中科院SP超分辨光刻機

提問者所說的中國光刻機達到世界先進水平，應該是指2018年11月29日通過驗收的，由中國科學院光電技術研究所主導、經過近七年艱苦攻關研製的「超分辨光刻裝備」項目。

該項目下研製的這台光刻機是「世界上首台分辨力最高的紫外(即22納米@365納米)超分辨光刻裝備」。這是一種表面等離子體（surfaceplasma，SP）超分辨光刻裝備。

▲中科院SP光刻機加工的樣品

然而，此次驗收合格的中科院光電技術研究所的這台表面等離子超衍射光刻機（SP光刻機）的加工精度與ASML的光刻機沒法比。沒法用於刻幾十納米級的晶元，至少以現在的技術不能。

據光電所專家稱，該所研製成功的這種SP光刻機用於晶元製造上還需要攻克一系列的技術難題，目前距離還很遙遠。也就是說中科院研製的這種光刻機不能（像一些網媒說的）用來光刻CPU。它的意義是用便宜光源實現較高的解析度，用於一些特殊製造場景，很經濟。

總之，中科院的22納米解析度光刻機跟ASML壟斷的光刻機不是一回事，說前者彎道超車，就好像說中國出了個競走名將要超越博爾特。

顯然，中科院研製成功的這台「超分辨光刻裝備」並不能說明我國在市場主流的的光刻機研製方面已經達到了世界先進水平，那麼現階段我國的光刻機的真實水平又是怎樣的呢？且看以下對比。

⑦ 中國國產的光刻機最小製程能達到多少

90納米。

封裝光刻機在國內市場已佔據不小的份額，這是國產光刻機取得的進步。然而在代表著光刻機技術水平的晶圓製造光刻機方面，上海微裝可生產加工90nm工藝製程的光刻機，這是國產光刻機最高水平，而ASML如今已量產7nm工藝製程EUV光刻機，兩者差距不得不說非常大。

光刻機的最小解析度、生產效率、良率均在不斷發展。 光刻機的最小解析度由公示 R=kλ/NA，其中 R 代表可分辨的最小尺寸，對於光刻技術來說R 越小越好，k 是工藝常數，λ 是光刻機所用光源的波長。

NA 代表物鏡數值孔徑，與光傳播介質的折射率相關，折射率越大，NA 越大。光刻機製程工藝水平的發展均遵循以上公式。此外光刻機的內部構造和工作模式也在發展，不斷提升晶元的生產效率和良率。

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注意事項：

進入機倉檢查或維修必須切斷電源，掛上警示牌並與中控，檢修或檢查時必須使用36V以下照明。

必須經常監視機器運轉情況，如聽任何不正常聲音，應立即停機檢查，查明原因並處理完故障後，方可重新起動。

正常運轉中，應特別注意電機和轉子的溫度變化，保證充足的油潤滑、水冷卻，超過規定值立即停機檢查。

運行時不準打開觀察孔，以防物料飛出傷人，每周應檢查一次轉子卡箍螺栓的松緊情況。

⑧ 生產光刻機有哪些上市公司

生產光刻機上市公司有ABM、上海微電子裝備有限公司、佳能、尼康、荷蘭ASML公司.

1、ABM

ABM公司成立於1986年，總部位於美國矽谷San Jose。主要經營光罩對准曝光機（光刻機），單獨曝光系統,光強儀/探針。公司的主要市場在美國和亞洲。

2、上海微電子裝備有限公司

上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。

公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。

3、佳能

佳能的產品系列共分布於三大領域：個人產品、辦公設備和工業設備，主要產品包括照相機及鏡頭、數碼相機、列印機、復印機、傳真機、掃描儀、廣播設備、醫療器材及半導體生產設備等。

4、尼康

尼康作為世界上僅有的三家能夠製造商用光刻機的公司，似乎在這個領域不被許多普通人知道，許多人只知道尼康的相機做的好，卻不知道尼康光刻機同樣享譽全球。

5、荷蘭ASML公司

這是一家總部設在荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。

參考資料來源：網路-荷蘭ASML公司

參考資料來源：網路-尼康

參考資料來源：網路-佳能

參考資料來源：網路-上海微電子裝備有限公司

參考資料來源：網路-ABM

⑨ 如何看當初大陸唯一一台7nm光刻機被抵押，千億級晶元項目停擺

高薪挖人爆表，也將這家神奇的公司暴露在公眾視野和陽光下，要麼是明星，要麼是沖上沙灘的那條魚。是福還是禍，立場不同、觀點不同，還真不好說。還原真相總是好的，盡管真相有時很殘酷。

本質上這個晶元自主供給率低，反而說明你做的工業產品、門類夠多，所以你才需要大量進口。所以這個70%的比率，估計很難達到。真要達到了，估計可以相當於一個國家是一個可以內循環的小世界了。

騙減稅思路很簡單啊，比如一家中型以上軟體公司，資產規模上過億，營業收入過億，按照正常來說他的稅負是高新企業所得稅15%，但事實上他可以拆分自己的專利項目，比如他做了五個子模塊，都有一定創新程度，然後去開五家公司，把五個專利分別放到這五家裡面，五家公司的資產規模控制在千萬左右，營業收入同母公司結算，控制在千萬左右，員工名義上劃分到各家公司，每家控制在百人以內，這樣五家公司就能申報科技型中小企業，研發費用除了原先按50%加計扣除外，還能再加計扣除75%；無形資產可以按照175%攤銷。實際上公司通過紙面上的操作，可以把稅負率降到10%。

用行政力量引導科技研發，必然會導致各種荒唐事。最後納稅人的錢浪費了，技術沒搞出來，還擠壓了大量真正做事人的資源。想在高科技領域有所發展，一分錢也別補貼，免稅就行。要相信市場的力量和國人的智慧，而不是迷信行政干預和所謂的中國模式。