中国首台7纳米光刻机公司股票

① 光刻机板块中3.7元股票是哪一个

光刻机板块的3.7万股票也是有的，它是在其中一只就是比较多的那只，所以说三点。

② 哪一光刻机巨头，占据了国内的80%市场

上海微电子是大陆光刻设备龙头企业，在国内中端先进封装光刻机和LED光刻机市场，独占80%的市场份额。

③ 中国有大型国企研发制造光刻机吗

光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。

光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，该领域的龙头老大是荷兰ASML，并已经垄断了高端光刻机市场。荷兰ASML公司EUV光刻机售价高达1亿美元，而且只有ASML能够生产。

相比之下，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

④ 中国生产28纳米芯片和光刻机的上市公司有哪些

⑤ 一台ASML7纳米光刻机月产能有多大

前面的回答有数据和概念错误，把测试数据当量产数据，还混淆了晶圆和芯片的关系，所以来补充一发。预告：高清多图，图片信息量大，需要仔细品味。先说晶圆和芯片的关系。晶圆就是从硅锭（不是龟腚）上切下的一张张薄片，下图中的长柱子就是刚拉制出的硅锭，从尺寸看直径应是12英寸的，高大约2米（参考旁边站立的人群），重150公斤。

所以，理论上说，ASML一台7纳米光刻机每月可加工18万张12英寸晶圆，制造大约5000万片可用的die。但考虑到客户一次下单量不可能这么大，加上制造过程中需要停机检查，所以实际产量会低于5000万片。

⑥ 中国的光刻机达到了世界先进水平，但为何生产高端芯片依然困难重重

018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。

▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍

刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发(Lam
Research)、应用材料(Applied Materials)、东京威力科创(Tokyo Electron
Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies)
4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额。

中科院SP超分辨光刻机

提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。

该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。这是一种表面等离子体（surfaceplasma，SP）超分辨光刻装备。

▲中科院SP光刻机加工的样品

然而，此次验收合格的中科院光电技术研究所的这台表面等离子超衍射光刻机（SP光刻机）的加工精度与ASML的光刻机没法比。没法用于刻几十纳米级的芯片，至少以现在的技术不能。

据光电所专家称，该所研制成功的这种SP光刻机用于芯片制造上还需要攻克一系列的技术难题，目前距离还很遥远。也就是说中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。

总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。

显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经达到了世界先进水平，那么现阶段我国的光刻机的真实水平又是怎样的呢？且看以下对比。

⑦ 中国国产的光刻机最小制程能达到多少

90纳米。

封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步。然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm工艺制程EUV光刻机，两者差距不得不说非常大。

光刻机的最小分辨率、生产效率、良率均在不断发展。 光刻机的最小分辨率由公示 R=kλ/NA，其中 R 代表可分辨的最小尺寸，对于光刻技术来说R 越小越好，k 是工艺常数，λ 是光刻机所用光源的波长。

NA 代表物镜数值孔径，与光传播介质的折射率相关，折射率越大，NA 越大。光刻机制程工艺水平的发展均遵循以上公式。此外光刻机的内部构造和工作模式也在发展，不断提升芯片的生产效率和良率。

(7)中国首台7纳米光刻机公司股票扩展阅读：

注意事项：

进入机仓检查或维修必须切断电源，挂上警示牌并与中控，检修或检查时必须使用36V以下照明。

必须经常监视机器运转情况，如听任何不正常声音，应立即停机检查，查明原因并处理完故障后，方可重新起动。

正常运转中，应特别注意电机和转子的温度变化，保证充足的油润滑、水冷却，超过规定值立即停机检查。

运行时不准打开观察孔，以防物料飞出伤人，每周应检查一次转子卡箍螺栓的松紧情况。

⑧ 生产光刻机有哪些上市公司

生产光刻机上市公司有ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康、荷兰ASML公司.

1、ABM

ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机（光刻机），单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

2、上海微电子装备有限公司

上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。

公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

3、佳能

佳能的产品系列共分布于三大领域：个人产品、办公设备和工业设备，主要产品包括照相机及镜头、数码相机、打印机、复印机、传真机、扫描仪、广播设备、医疗器材及半导体生产设备等。

4、尼康

尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道尼康的相机做的好，却不知道尼康光刻机同样享誉全球。

5、荷兰ASML公司

这是一家总部设在荷兰艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。

参考资料来源：网络-荷兰ASML公司

参考资料来源：网络-尼康

参考资料来源：网络-佳能

参考资料来源：网络-上海微电子装备有限公司

参考资料来源：网络-ABM

⑨ 如何看当初大陆唯一一台7nm光刻机被抵押，千亿级芯片项目停摆

高薪挖人爆表，也将这家神奇的公司暴露在公众视野和阳光下，要么是明星，要么是冲上沙滩的那条鱼。是福还是祸，立场不同、观点不同，还真不好说。还原真相总是好的，尽管真相有时很残酷。

本质上这个芯片自主供给率低，反而说明你做的工业产品、门类够多，所以你才需要大量进口。所以这个70%的比率，估计很难达到。真要达到了，估计可以相当于一个国家是一个可以内循环的小世界了。

骗减税思路很简单啊，比如一家中型以上软件公司，资产规模上过亿，营业收入过亿，按照正常来说他的税负是高新企业所得税15%，但事实上他可以拆分自己的专利项目，比如他做了五个子模块，都有一定创新程度，然后去开五家公司，把五个专利分别放到这五家里面，五家公司的资产规模控制在千万左右，营业收入同母公司结算，控制在千万左右，员工名义上划分到各家公司，每家控制在百人以内，这样五家公司就能申报科技型中小企业，研发费用除了原先按50%加计扣除外，还能再加计扣除75%；无形资产可以按照175%摊销。实际上公司通过纸面上的操作，可以把税负率降到10%。

用行政力量引导科技研发，必然会导致各种荒唐事。最后纳税人的钱浪费了，技术没搞出来，还挤压了大量真正做事人的资源。想在高科技领域有所发展，一分钱也别补贴，免税就行。要相信市场的力量和国人的智慧，而不是迷信行政干预和所谓的中国模式。